第100、101章 极紫外光刻技术（为饢龘及订阅加更） (第2/8页)

片知识，解锁也只需要五十万单位能源，性能直接碾压这些传统计算芯片。

    有那个能源点和精力，解锁量子芯片，它不香吗？

    何星舟直接把这三个级别的硅基芯片解锁，花费了三十万单位能源。

    量子芯片等待之后再解锁，因为现在全国都等着用高端硅基芯片，量子芯片还不急。

    除此之外，便是光刻机的相关知识。

    光刻机也在超精密加工技术里，何星舟去年解锁了超精密加工的切削技术，研发出了龙腾系列机床。

    这次得解锁“超精密特种加工技术”，需要能量点十万点。

    “制造光刻机，还需要光刻胶。”光刻胶又叫光致抗蚀剂，是一种耐蚀剂刻薄膜材料，半导体加工时需要这种材料。

    光刻胶这东西，也在白鹰等的列表中。

    “紫外光刻胶，适用于436纳米-365纳米光刻技术，解锁需要一万单位能源。”

    “深紫外光刻胶，适用于248纳米-193纳米光刻，解锁需要三万单位能源。”

    “极紫外光刻胶，常用于11纳米-14纳米光刻，解锁需要五万单位能源。”

    “辐射线光刻胶，用于更高分辨率光刻，需解锁上述所有光刻胶后方能解锁。”

    何星舟要用到的，便是极紫外光刻胶，目前世界上最先进的光刻机，也就是极紫外光刻机，它可以制造出3纳米制程的硅基芯片。

    又是八万单位能源，何星舟将光刻胶材料技术也解锁掉。

    最后，便是最重要的光刻机制造技术了。

    光